Lithographie

Präzisionspositionierungssystem für Elektronenstrahlanwendungen.
© Fraunhofer IOF.

Präzisionspositionierungssystem für Elektronenstrahlanwendungen.

Die Elektronenstrahllithographie ist wegen der geringen Spotgrößen von wenigen Nanometern ein ideales Werkzeug für die Nanotechnologie. Das Fraunhofer IOF besitzt langjährige Kompetenz auf dem Gebiet der Realisierung anspruchsvoller optischer Mikro- und Nano-Strukturen. Schlüsseltechnologie ist hierbei die Elektronenstrahllithographie. Die verfügbare, technologische Ausstattung ermöglicht die effiziente Realisierung optischer Mikro- und Nano-Strukturen auf Flächen bis 300 mm Ausdehnung mit höchster Präzision und Auflösung.

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Dr. Uwe Zeitner

Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF
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